干法刻蝕技術是一個非常廣泛的概念。所有不涉及化學腐蝕液體的刻蝕技術或者材料加工技術都是干法，刻蝕則代表材料的加工是從表面通過逐層剝離的方法形成事先設計的圖形或結構。在所有的干法加工技術中，等離子刻蝕技術是應用較廣泛的，也是微納米加工能力較強的技術。它是在等離子體中發(fā)生的，等離子體是在電場作用下產生的。對氣體通電，使氣體被電離，隨著氣體分子的大量電離，氣體由初期的絕緣狀態(tài)變?yōu)閷щ姞顟B(tài)，有電流通過，形成電場。同時空間的自由電子也會不斷與氣體離子碰撞復合，恢復為氣體原子。zui終電離與復合達到平衡態(tài)，在空間形成等離子體。氣體離子恢復到原子態(tài)會以光子形式釋放能量，產生輝光，所以產生等離子體的過程又稱為輝光放電過程。

如上所訴，等離子刻蝕過程是一個非常復雜的物理與化學過程，有多種可調控的參數，例如氣體流量，壓力與放電功率等。每一個參數都會在某種程度上影響后期的刻蝕效果。一次成功的刻蝕取決于如何調整上述參數以實現所需的抗蝕比，刻蝕速率和均勻性。